Applications Thermal Evaporation and PVD Coating

애플리케이션

열 증착 및 PVD 코팅

열 증착과 물리적 기상 증착(PVD)은 다양한 기판에 박막과 코팅을 적용하는 데 사용되는 두 가지 기술입니다. 증착 장비만큼이나 중요한 것은 원재료의 순도입니다. 인듐 코퍼레이션은 특히 전자 및 반도체 산업을 위한 고품질 소재, 특히 인듐과 갈륨을 제공합니다. 또한 경험이 풍부한 기술 지원을 제공하여 PVD 공정을 최적화할 수 있도록 도와드립니다.

지원 받기

개요

박막 증착의 높은 품질과 효율성 달성

열 증착과 PVD는 박막 증착을 위한 두 가지 기술이며, 각각 다른 방법을 활용합니다. 이러한 공정은 전자, 자동차, 항공우주 등 다양한 산업 분야에서 매우 중요합니다. 효과적이고 효율적인 열 증착을 위해서는 고품질의 박막을 얻기 위해 고순도 금속과 합금이 필수적입니다. 인디엄 코퍼레이션은 첨단 소재, 품질에 대한 확고한 약속, 뛰어난 기술 지원으로 고객들이 선호하는 기업입니다.

혜택

인디엄 코퍼레이션의 최고의 재료와 전문성으로 박막 증착을 향상시키세요.

고급 재료

당사는 박막 증착에서 우수한 품질을 보장하기 위해 최고 수준의 금속, 합금 및 화합물을 제공하는 데 자부심을 가지고 있습니다.

인듐 우수성

인듐과 그 화합물, 특히 인듐주석산화물(ITO)은 뛰어난 전도성과 투명성으로 인해 디스플레이, 터치스크린, 태양전지에 널리 사용됩니다.

고품질 갈륨

갈륨은 전기를 빛이나 무선 주파수 신호로 변환하는 데 효율적이라고 알려진 반도체인 갈륨비소(GaAs)를 형성하는 데 중요한 역할을 하며, LED 및 무선 주파수 기술에서 필수적인 소재입니다.

전용 서비스

각 고객과 협력하여 올바른 재료를 선택하고 재료 및 프로세스에 대한 전문 지식을 제공하여 원활한 경험을 보장합니다.

Materials and Available Forms

재료	라운드 샷	눈물 방울 샷	청크	사용자 지정 양식	도가니 채우기	맞춤형 도가니 삽입
In	X	X		X	X	X
ITO			X
Ga	X				X
InGa	X	X		X	X

특징

열 증발에 대한 일반적인 원소의 물리적 특성

	인듐	갈륨	구리	셀레늄
원자 번호	49	31	29	34
끓는점	2,072°C	2,204°C	2,562°C	685°C
녹는점	157°C	29.8°C	1,084°C	221°C
밀도	7.31g/cm³	6.10g/cm³	8.94g/cm³	4.28 – 4.81g/cm³
원자 무게	114.8g/mol	69.7g/mol	63.5g/mol	789.6g/mol

열 증발용 일반 합금의 물리적 특성

	ITO	CuGa	Culn
녹는점	1500°C	460°C	575°C
밀도	7.16g/cm³	7.91g/cm³	8.45g/cm³