Il tricloruro di indio, cloruro di indio (III) o InCl3 ha molti nomi e molti usi, ma l'impiego principale di questo materiale è la creazione di un precursore di indio per la deposizione di vapore chimico (CVD). Il TMI (tri-metil-indio) è un precursore per la deposizione di indio, come il TMG per la deposizione di gallio.Entrambi i precursori MOCVD sono discussi qui: https://www.indium.com/compounds/led-mocvd-precursors/#application
Ecco il flusso dell'indio nella produzione dei LED:
In + Cl-> cloruro di indio (III)-> TMI-> LED
La deposizione chimica da vapore è solo uno dei modi per depositare strati di indio su una superficie. La deposizione fisica di vapore, come lo sputtering e l'evaporazione, sono comuni. Ecco la mia opinione su come si confrontano i processi di deposizione chimica e fisica: http://documents.indium.com/qdynamo/download.php?docid=1957
