Hiện có nhiều loại vật liệu giao diện nhiệt khác nhau, nhưng nhờ tính dẫn nhiệt cao, khả năng nén tốt và dễ thi công, kim loại indi là một trong những vật liệu giao diện nhiệt được ưa chuộng nhất. Có nhiều cách để thi công giao diện indi, nhưng nếu yêu cầu điện trở cực thấp, việc hàn một miếng đúc sẵn bằng indi giữa hai bề mặt là một phương pháp phổ biến. Indi nguyên chất là vật liệu lý tưởng cho giao diện nhiệt hàn nhờ khả năng tự thụ động hóa. Trong khi một số kim loại sẽ hình thành lớp oxit bề mặt rất dày khi tiếp xúc với điều kiện môi trường xung quanh, indium chỉ tạo ra một lớp màng oxit mỏng trên bề mặt kim loại của nó. Lớp oxit dày 80-100Å mà nó hình thành là độ dày tối đa sẽ phát triển trên bề mặt trong vòng 2-4 giờ trước khi lớp oxit này bắt đầu hoạt động như một rào cản bảo vệ, ngăn chặn quá trình oxy hóa tiếp theo trên bề mặt. Sự hiện diện của lớp oxit bề mặt khiến chất hàn không thể bám dính lên chất nền. Để quá trình bám dính xảy ra, cần phải sử dụng khí khử, sóng siêu âm, chất trợ hàn hóa học hoặc các phương pháp mới khác để loại bỏ oxit. Lớp oxit mà indi tạo thành rất mỏng nên không cản trở quá trình bám dính của chất hàn lên bề mặt kim loại quý. Ngoài ra, lớp oxit này có thể được loại bỏ rất nhanh nếu muốn bằng cách nhúng kim loại indi vào axit nhẹ.
Lớp oxit indi
Nhóm viết blog của Indium Corporation
Nhóm viết blog của chúng tôi bao gồm các kỹ sư, nhà nghiên cứu, chuyên gia sản phẩm và những người dẫn đầu ngành. Chúng tôi chia sẻ chuyên môn về vật liệu hàn, lắp ráp điện tử, quản lý nhiệt và sản xuất tiên tiến. Blog của chúng tôi cung cấp thông tin chi tiết, kiến thức kỹ thuật và giải pháp để truyền cảm hứng cho các chuyên gia, giới thiệu các cải tiến sản phẩm, xu hướng và phương pháp hay nhất để giúp độc giả thành công trong một ngành công nghiệp cạnh tranh.
