酸化インジウム層

熱界面材料にはさまざまな種類がありますが、インジウム金属は、その高い熱伝導率、圧縮性、および塗布の容易さから、最も好まれる熱界面材料の一つとなっています。インジウム界面を形成する方法はいくつかありますが、超低抵抗が求められる場合、2つの表面の間にインジウムプリフォームをはんだ付けする方法が一般的です。純インジウムは、自己パッシベーション能力を持つため、はんだによる熱界面形成に最適な材料です。 一部の金属は周囲の環境にさらされると非常に厚い金属表面酸化膜を形成しますが、インジウムは金属表面に薄い酸化膜しか形成しません。形成される80～100Åの酸化膜は、2～4時間で表面に形成される最大厚さであり、この酸化膜はその後、保護バリアとして機能し始め、表面をそれ以上の酸化から守ります。 表面に酸化膜が存在すると、はんだが基板に濡れ付着することができなくなります。濡れ付着を可能にするには、還元性ガス、超音波、化学フラックス、あるいはその他の新しい酸化膜除去法を用いる必要があります。インジウムが形成する酸化膜は非常に薄いため、貴金属表面へのはんだの濡れ付着を妨げることはありません。また、必要に応じて、インジウム金属を弱酸に浸すことで、この酸化膜を非常に迅速に除去することも可能です。