O tricloreto de índio, cloreto de índio (III) ou InCl3 tem muitos nomes e muitas utilizações, mas a principal utilização deste material é a criação de um precursor de índio para CVD (deposição química de vapor). O TMI (tri-metil índio) é um precursor para a deposição de índio, tal como o TMG para a deposição de gálio. Ambos os precursores MOCVD são discutidos aqui: https://www.indium.com/compounds/led-mocvd-precursors/#application
Eis o fluxo do índio no fabrico de LED:
In + Cl-> cloreto de índio (III)-> TMI-> LED
No entanto, a deposição química de vapor é apenas uma forma de depositar camadas de índio numa superfície. A deposição física de vapor, como a pulverização catódica e a evaporação, é comum. Eis a minha opinião sobre a comparação entre os processos de deposição química e física: http://documents.indium.com/qdynamo/download.php?docid=1957
