El tricloruro de indio, cloruro de indio (III) o InCl3 recibe muchos nombres y tiene muchos usos, pero el uso principal de este material es crear un precursor de indio para CVD (deposición química en fase vapor). El TMI (trimetilindio) es un precursor para la deposición de indio, al igual que el TMG para la deposición de galio. Ambos precursores MOCVD se analizan aquí: https://www.indium.com/compounds/led-mocvd-precursors/#application
He aquí el flujo del indio en la fabricación de LED:
In + Cl-> cloruro de indio (III)-> TMI-> LED
Sin embargo, la deposición química de vapor es sólo una forma de depositar capas de indio sobre una superficie. La deposición física de vapor, como la pulverización catódica y la evaporación, son habituales. Esta es mi opinión sobre la comparación entre los procesos de deposición química y física: http://documents.indium.com/qdynamo/download.php?docid=1957
