三氯化铟、氯化铟(III)或InCl3有许多名称和用途,但这种材料的主要用途是为 CVD(化学气相沉积)制造铟前驱体。TMI(三甲基铟)是一种用于铟沉积的前驱体,就像用于镓沉积的 TMG 一样。这两种 MOCVD 前驱体在这里都有讨论:https://www.indium.com/compounds/led-mocvd-precursors/#application。
这就是铟在 LED 生产中的应用流程:
In + Cl-> 氯化铟 (III)-> TMI-> LED
化学气相沉积只是在表面上沉积铟层的一种方法。溅射和蒸发等物理气相沉积也很常见。以下是我对化学沉积和物理沉积工艺比较的看法: http://documents.indium.com/qdynamo/download.php?docid=1957