Sự ăn mòn xảy ra do phản ứng điện hóa giữa hai kim loại khác nhau, trong đó một kim loại đóng vai trò là cực dương và một kim loại đóng vai trò là cực âm. Các ion halogenua, chẳng hạn như florua, bromua và clorua, thường là nguyên nhân gây ra sự di chuyển điện phân. Mặc dù chúng thường có trong chất hàn, tôi đã rất ngạc nhiên khi phát hiện ra rằng chúng cũng được sử dụng trong các quy trình ăn mòn, mạ, cưa và đóng gói. Khi được sử dụng trong chất trợ dung, công thức hóa học được thiết kế để hoặc giữ lại halogenua để nó không gây hại, hoặc giúp việc làm sạch dễ dàng hơn để có thể loại bỏ hoàn toàn (chẳng hạn như trong chất trợ dung hòa tan trong nước). Đối với các chip lật có khoảng cách thấp, khả năng làm sạch của chất trợ dung hòa tan trong nước là yếu tố quan trọng hàng đầu trong quá trình pha chế.
Chưa phải là hết hy vọng, và bạn vẫn có thể đảm bảo độ tin cậy cao bằng cách sử dụng chất trợ hàn không cần rửa lại một cách phù hợp, hoặc sử dụng chất trợ hàn hòa tan trong nước và kiểm tra kỹ quy trình rửa bằng nước. Các chip có kích thước lớn với khoảng cách cách điện nhỏ (từ 50 đến 100 micron) đòi hỏi phải có hệ thống phun nước áp lực cao chính xác để giúp nước tiếp cận được đến trung tâm của giao diện giữa chip và chất nền.
