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Nettoyage des préformes de matériaux d'interface thermique (TIM) à l'indium

Voici une question qui a été posée et à laquelle nous avons répondu sur notre site web en 2006, et je pense qu'elle est toujours d'actualité :

Question : "Pourquoi votre note d'application pour le nettoyage du ruban d'indium pour l'interface thermique recommande-t-elle une solution acide HCl douce (5-10%), alors que la FDS de l'indium #4 (100%) indique d'éviter le contact avec l'acide ?y #4 (100%) indique qu'il faut éviter le contact avec l'acide ? Mon expérience indirecte de l'utilisation de l'indium m'a appris qu'une procédure de nettoyage des oxydes était nécessaire pour obtenir une bonne résistance au contact thermique.

Réponse : "Merci d'avoir contacté Indium Corporation pour nous faire part de votre demande. Si le ruban d'indium est stocké et manipulé correctement (stocké sans être ouvert dans un emballage d'argon ou d'azote - placé dans une boîte sèche) et s'il se soude bien dans votre processus, cette procédure ne devrait pas être nécessaire. Lorsque vous suivez cette procédure, la solution de HCl doit être appliquée au métal d'indium pour le nettoyer complètement, puis séchée avec de l'azote."

Si vous souhaitez en savoir plus sur les matériaux d'interface thermique (MIT) (manipulation, préparation ou paramètres de traitement), envoyez un courriel à notre équipe technique internationale à l'adresse suivante : [email protected]. Ils sont prêts à répondre à vos questions !

~Jim