A veces, recibo preguntas como: "¿Cuánto tiempo se tarda en depositar 20 µmof de indio en mi placa utilizando su baño de sulfamato de indio?". Pues bien, la respuesta a esta pregunta se lo pondría muy fácil al cliente. Permítame mostrarle cómo calcular esto con facilidad.En este post, derivaré una relación simple y fácil que funcionará para cualquiera. Créeme, es fácil; basta con utilizar algunas relaciones fundamentales que estudiamos en el instituto. Comienza con el número de electrones necesarios para reducir un ión In3+ a un átomo de In: 3, ¡correcto!
Entonces, ¿cuánto cuesta eso? ¡3e!
El tiempo que tarda depende directamente de cuánta carga tenemos que suministrar para reducir todos esos iones de indio, y a qué velocidad de tiempo podemos suministrarlos: ¡eso es "corriente"!
Si ha oído hablar de la famosa relación corriente-carga,
Sí, a eso me refiero.
Así que, volviendo a lo básico,
Si el cátodo (donde se electrodeposita el indio) no está eficiente, tomará un poco más de tiempo. Digamos que, σ es la eficiencia. Entonces tomará, veces más. Por ejemplo, si es eficiente, hará falta, veces más. Así que, incorporando la eficiencia, la ecuación para el tiempo se convierte en:
Hora de enchufar todos estos valores en la ecuación anterior, se obtiene:
Vale, entonces la respuesta es, el tiempo estimado para depositar es de 34 minutos, y ya sabes qué factores pueden cambiar esto.
Y aquí tienes una fórmula fácil para calcular el tiempo en minutos para las unidades de grosor y densidad de corriente más utilizadas;
Vale, ¿por qué no llamas a este número ¡"Constante Inplate de Shital"!
El baño de sulfamato de indio de Indium Corporation tiene una eficacia catódica del 90%. Más eficacia significa menos tiempo. La densidad de corriente típica para trabajar es de alrededor de pero puede aumentarse hasta manteniendo la temperatura del baño a . El aumento de la densidad de corriente de a puede reducir el tiempo de deposición en un factor de 5, es decir, el mismo ahora depositará en 7 minutos.
El uso extensivo del indio en la actualidad se remonta a la década de 1930, cuando los fundadores de Indium Corporation desarrollaron por primera vez un baño de indio comercial. Los últimos avances en la tecnología de semiconductores y la unión de flip-chips utilizan el indio para crear interconexiones entre capas de obleas. El indio se galvanoplastia sobre sustratos de obleas para crear protuberancias de indio de alta densidad, bajo paso y alta relación de aspecto. La suavidad, ductilidad y humectabilidad del indio garantizan una conexión fuerte y fiable entre dos superficies, aunque no estén perfectamente planas o alineadas. Además, el indio es estable incluso a temperaturas cercanas a cero, lo que lo hace muy adecuado para aplicaciones de semiconductores en entornos extremos, como los espaciales.
Si está pensando en proyectos de galvanoplastia a pequeña escala, incluida la restauración y reparación de objetos metálicos antiguos con revestimiento de indio, puede empezar con un kit de galvanoplastia sano y fácil de usar como el que le ofrecemos aquí.
Consulte los siguientes documentos para obtener más información sobre la galvanoplastia de indio, el baño de sulfamato de indio y la galvanoplastia de protuberancias de indio.
- Obtención de una estructura de grano más fino con el baño de sulfamato de indio
- Electrodeposición de obleas de indio mediante pulsos
- Chapado, un método alternativo de aplicación del indio
- Preparación adecuada de la superficie para el revestimiento con indio
- Metalizado de prototipos con baño de sulfamato de indio
- Recuperación y eliminación de la solución del baño de sulfamato de indio
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