Le trichlorure d'indium, le chlorure d'indium (III) ou InCl3 porte de nombreux noms et a de nombreuses utilisations, mais ce matériau sert principalement à créer un précurseur d'indium pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le TMI (tri-méthyl indium) est un précurseur pour le dépôt d'indium, tout comme le TMG pour le dépôt de gallium. Les deux précurseurs MOCVD sont présentés ici : https://www.indium.com/compounds/led-mocvd-precursors/#application
Voici donc le flux d'indium dans la fabrication des LED :
In + Cl-> chlorure d'indium (III)-> TMI-> LED
Le dépôt chimique en phase vapeur n'est toutefois qu'un moyen parmi d'autres de déposer des couches d'indium sur une surface. Le dépôt physique en phase vapeur, tel que la pulvérisation et l'évaporation, est également courant. Voici mon point de vue sur la comparaison entre les processus de dépôt chimique et physique : http://documents.indium.com/qdynamo/download.php?docid=1957
