Flussi di semiconduttori
Flusso di bumping per wafer
Indium Corporation sviluppa e fornisce flussi di altissima qualità per la realizzazione di bump su wafer (bump fusion), progettati per eliminare gli ossidi e altre impurità durante le fasi di riflusso e pulizia. I nostri flussi possono essere applicati su wafer con bump di saldatura e su wafer con pilastri di rame/cappucci di saldatura mediante tecniche di dosaggio o di rivestimento a rotazione.
Alimentato da Indium Corporation
- Lavabile con acqua o con solventi
- Adatto all'uso con varie leghe
- Ampiamente compatibile

Panoramica del prodotto
Indium Corporation vanta una reputazione consolidata nella fornitura di flussi per il bumping dei wafer di alta qualità. Il nostro ampio portafoglio comprende materiali su misura per diverse applicazioni, tra cui i tradizionali processi di bumping dei wafer in cui i flussi vengono applicati mediante rivestimento a rotazione su bump placcati o pilastri di rame. Inoltre, i nostri prodotti eccellono nelle applicazioni di stampa, in cui il flusso viene applicato ai wafer prima del processo di "ball drop", comunemente utilizzato nei CSP a livello di wafer (WLCSP), nonché nei pacchetti fan-out a livello di wafer e di pannello.
I nostri prodotti di flussante per il bumping dei wafer sono compatibili con i polimeri e i materiali di passivazione comunemente utilizzati nella lavorazione dei wafer e nell'assemblaggio dei dispositivi.
- Applicato tramite getto o dosaggio, seguito da rivestimento a rotazione per ottimizzare lo spessore del film
- Reflow in inert atmosphere (typically <20ppm O2 level)
- Trasforma i bump di saldatura ruvidi, non sferici, placcati o ammaccati dalla sonda del wafer in bump lucidi e privi di ossido
- Tra le applicazioni collaudate figurano i micro-bump con pilastro in rame e i bump di saldatura standard
- Si applica mediante stampa su wafer o pannello utilizzando uno schermo o uno stencil, seguita da un processo di deposizione di sfere
- Il flussante per bumping su wafer WS-3401 viene utilizzato nella tecnologia di packaging 2.5D "chip on wafer" più avanzata.
- Il flussante per il bumping dei wafer SC-5R viene utilizzato da oltre 10 anni nei prodotti di vecchia generazione.
Prodotti per il flusso di bumping dei wafer
La realizzazione dei bump sui wafer con l'uso del flussante continua a essere un metodo ampiamente diffuso, sebbene alcuni siano passati ad attrezzature e processi che non prevedono l'uso del flussante. Il flussante è estremamente efficace nel produrre bump con uno strato di ossido uniformemente sottile e ben arrotondati, con una morfologia ottimale.
| Tipo di flusso* | Metodo di applicazione del flussante | Descrizione | Metodo di pulizia | Senza alogeni | Materiale |
|---|---|---|---|---|---|
| SC | Dosaggio/Rivestimento a rotazione | Bump di saldatura ad alto contenuto di Pb, eutettici SnPb e SnAg | Chimica a base di solventi o a base acquosa | Sì | SC-5R |
| WS | Dosaggio/Rivestimento a rotazione | Pilastri in rame con passo di 20-65 micron e microbumps in SnAg o Sn100 | Acqua tiepida DI | Sì | WS-3401 WS-3543 |
| Tipo di flusso* | Metodo di applicazione del flussante | Descrizione | Metodo di pulizia | Senza alogeni | Materiale |
|---|---|---|---|---|---|
| WS | Stampa | Contenitori a livello di wafer o a livello di pannello con passo pari o inferiore a 0,5 mm; adatti anche per l’applicazione di fissaggio di chip LED | Acqua tiepida DI | Sì | WS-676 WS-759 WS-829 |
| Considerazioni | Stampa a e con pasta saldante | Placcatura | Stampa di sfere con flussante/saldante | C4-NP (Suess/IBM) |
|---|---|---|---|---|
| Viene utilizzato nella produzione su larga scala? | Sì | Sì | Sì | Sì |
| Restrizioni relative alle leghe | Tutte le leghe per saldatura, purché sia possibile produrle in polvere | Solo leghe binarie (Sn/Pb, Sn/Ag, Sn/Cu ecc.) a causa di problemi legati al controllo delle leghe | Tutte le leghe per saldatura, purché sia possibile ricavarne sfere | Probabilmente limitato alle leghe binarie |
| Dimensione del rigonfiamento | Solo con un passo di circa 125 micron. Solo il 45% del volume della pasta è costituito da metallo | È possibile ottenere protuberanze fino a 2 micron: forse anche meno | Diametro dei bump di 60 micron nella produzione di massa, ma utilizzato più comunemente nella produzione di CSP a livello di wafer | Sconosciuto |
| Uniformità del rilievo | OK: può variare in modo significativo a seconda dell'età della pasta saldante e delle variabili del processo di stampa | Bene | Adatto all’uso con sfere di saldatura con tolleranze strette adeguate | Bene |
| Vuotamento | Comune | Poca o nessuna, grazie a un processo di placcatura controllato | Poco o per niente | Poco o per niente |
| Confronto dei costi | A basso costo | Più costoso | A basso costo | Elevati costi di investimento |
| Prototipazione | Abbastanza facile | Complesso | Facile | Complesso |
Schede tecniche dei prodotti
WS-3401 Flusso per wafer PDS 98197 R4.pdf
WS-3401-A Flusso per wafer PDS 98764 R4.pdf
WS-3518 Flusso per wafer PDS 98431 R3.pdf
WS-3543 Flusso per wafer PDS 98398 R3.pdf
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