갈륨 화합물
산화 갈륨
산화갈륨(Ga₂O₃)은 갈륨(III) 산화물 또는 세스퀴옥사이드 갈륨으로도 알려져 있으며 전력 전자, 광전자 및 고주파 장치를 개선할 수 있는 잠재력을 인정받은 고급 와이드 밴드갭 반도체 소재입니다. 이 반도체의 안정적이고 고품질의 공급은 매우 중요하며, 갈륨에 대한 다년간의 전문성을 갖춘 인디엄 코퍼레이션은 프리미엄 제품 품질과 서비스를 원하는 고객이 선호하는 선택입니다.
Indium Corporation 제공
- 우수한 순도 및 품질
- 대용량 및 안정적인 공급
- 수십 년의 경험
특징
4.8 eV
Ga2O3는 전력 전자 분야에서 초광대역갭(~ 4.8eV) 반도체로 주목받고 있습니다.
74.39%
74.39%는 산화갈륨의 이론적 갈륨 비율입니다.
B-단계
산화갈륨의 β상은 가장 안정적이고 일반적으로 사용되는 형태이기 때문에 대부분의 상용 애플리케이션에서 기본 구조로 사용됩니다.
산화갈륨 제품
갈륨(III) 산화물은 주로 β 상에 있는 고순도 백색 분말로, X선 회절(XRD)로 확인됩니다. 이 화합물의 순도 등급은 99.99%(4N)이며 다양한 입자 크기 분포로 제공되어 특정 산업 요구 사항을 충족합니다. 또한 수량 요구 사항에 따라 PE 병, 플라스틱 통 또는 드럼에 포장되어 있습니다.
| 속성 | 사염화 게르마늄 |
|---|---|
| 모양 | 흰색 분말 |
| 녹는점 | 1900°C |
| 밀도(재질) | 6.44g/cm³ |
| 밀도(겉보기) | 0.7g/cm³ |
| 용해성 | 강알칼리성 및 뜨거운 산에 용해, 물에 불용성 |
| 이론적 갈륨 함량 | 74.39% |
관련 애플리케이션
산화갈륨은 아래 용도에 적합합니다.
화학 합성
Indium and gallium compounds for chemical synthesis…
관련 시장
산화갈륨은 반도체 시장에서 중요한 역할을 하며, 특히 에지-피딩 필름 성장(EFG) 및 조크랄스키(CZ) 등의 방법을 통한 Ga₂O₃ 웨이퍼 생산에서 중요한 역할을 합니다. 또한 높은 전류와 픽셀 밀도가 필요한 차세대 디스플레이에 필수적인 IGZO 또는 GIZO와 같은 스퍼터링 타겟을 제조하는 데도 매우 중요합니다. 우수한 특성을 가진 GIZO는 디스플레이의 액티브 매트릭스 백플레인의 박막 트랜지스터에 이동성이 높은 액티브 채널을 증착할 수 있게 해줍니다.
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