Composés du gallium
Oxyde de gallium
L'oxyde de gallium (Ga₂O₃), également appelé oxyde de gallium (III) ou sesquioxyde de gallium, est un matériau semi-conducteur de pointe à large bande interdite, reconnu pour son potentiel d'amélioration dans les domaines de l'électronique de puissance, de l'optoélectronique et des dispositifs à haute fréquence. Un approvisionnement fiable et de haute qualité en ce semi-conducteur est essentiel, et forte de ses nombreuses années d'expertise dans le domaine du gallium, Indium Corporation est le choix privilégié des clients à la recherche d'une qualité de produit et d'un service haut de gamme.
Powered by Indium Corporation
- Une pureté et une qualité exceptionnelles
- Volume important et approvisionnement fiable
- Des décennies d'expérience

Caractéristiques
Produits à base d'oxyde de gallium
Notre oxyde de gallium (III) est une poudre blanche de haute pureté se présentant principalement sous la forme de la phase β, comme l'a confirmé la diffraction des rayons X (DRX). Ce composé présente un degré de pureté de 99,99 % (4N) et est disponible dans différentes distributions granulométriques, afin de répondre aux besoins spécifiques de chaque secteur d'activité. Il est également conditionné dans des flacons en PE, des seaux en plastique ou des fûts, en fonction des quantités requises.
| Propriété | Tétrachlorure de germanium |
|---|---|
| Apparence | Poudre blanche |
| Point de fusion | 1900°C |
| Densité (matériau) | 6,44 g/cm³ |
| Densité (apparente) | 0,7 g/cm³ |
| Solubilité | Soluble dans les alcalis forts et les acides chauds, insoluble dans l'eau |
| Teneur théorique en gallium | 74.39% |
Applications connexes
L'oxyde de gallium convient aux applications suivantes.
Synthèse chimique
Composés d'indium et de gallium destinés à la synthèse chimique…
Marchés connexes
L'oxyde de gallium joue un rôle important sur le marché des semi-conducteurs, notamment dans la production de plaquettes de Ga₂O₃ par des procédés tels que la croissance de film à alimentation par le bord (EFG) et le procédé Czochralski (CZ). Il est également essentiel à la fabrication de cibles de pulvérisation telles que l'IGZO ou le GIZO, indispensables aux écrans de nouvelle génération nécessitant des courants élevés et des densités de pixels élevées. Le GIZO, grâce à ses propriétés supérieures, permet le dépôt de canaux actifs à haute mobilité dans les transistors à couche mince situés sur le plan de fond de matrice active de l'écran.
Le soutien d'experts pour des résultats fiables
Vous avez des questions techniques ou commerciales ? Notre équipe dévouée est là pour vous aider. "D'un ingénieur à l'autre®" n'est pas seulement notre devise, c'est notre engagement à fournir un service exceptionnel. Nous sommes prêts quand vous l'êtes. Connectez-vous !

Vous cherchez des fiches de données de sécurité ?
Accédez à tout ce dont vous avez besoin - des spécifications techniques aux conseils d'application - en un seul endroit pratique.

Votre réussite
est notre objectif
Optimisez vos processus grâce aux matériaux et aux technologies les plus récents, ainsi qu'à l'assistance d'experts en matière d'applications. Tout commence par un contact avec notre équipe.




