製品紹介 化合物 酸化ガリウム

酸化ガリウム

酸化ガリウム(Ga₂O₃)は、ガリウム(Ⅲ)酸化物またはガリウムセスキオキシドとしても知られ、パワーエレクトロニクス、オプトエレクトロニクス、高周波デバイスを改善する可能性が認められている先進的なワイドバンドギャップ半導体材料です。この半導体の信頼できる高品質な供給は極めて重要であり、ガリウムに関する長年の専門知識を持つインジウム・コーポレーションは、高品質の製品とサービスを求めるお客様に選ばれています。

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  • 優れた純度と品質
  • 大量かつ信頼性の高い供給
  • 数十年の経験
灰色背景に密集して散在する多数の棒状細菌の顕微鏡写真。

4.8 eV

74.39%

B相

プロパティ四塩化ゲルマニウム
外観白い粉
融点1900°C
密度(素材)6.44g/cm³
密度(見掛け)0.7g/cm³
溶解度強アルカリと高温の酸に溶け、水に溶けない。
理論上のガリウム含有量74.39%

関連アプリケーション

酸化ガリウムは以下の用途に適しています。

化学合成を示す分子結合

化学合成

Indium and gallium compounds for chemical synthesis…

関連市場

酸化ガリウムは、半導体市場、特にエッジフェッド膜成長(EFG)やチョクラルスキー(CZ)のような方法によるGa₂O₃ウェーハの製造において重要な役割を果たしている。また、IGZOやGIZOのようなスパッタリング・ターゲットの製造にも不可欠であり、これは大電流と画素密度を必要とする次世代ディスプレイに不可欠である。優れた特性を持つGIZOは、ディスプレイのアクティブマトリクスバックプレーン上の薄膜トランジスタに高移動度アクティブチャネルを成膜することを可能にする。

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