Halbleiter-Flussmittel
Wafer Bumping Flussmittel
Indium Corporation entwickelt und liefert erstklassige Flussmittel für das Wafer-Bumping (Bump-Fusion), die Oxide und andere Verunreinigungen während des Reflows und der Reinigung beseitigen. Unsere Flussmittel können auf Wafer mit Lötbumps und Kupfersäulen/Lötkappen durch Dosier- oder Schleuderbeschichtungstechniken aufgebracht werden.
Angetrieben von der Indium Corporation
- Mit Wasser abwaschbar oder mit Lösungsmittel reinigbar
- Geeignet für die Verwendung mit verschiedenen Legierungen
- Weitgehend kompatibel

Produktübersicht
Die Indium Corporation genießt seit langem den Ruf, hochwertige Wafer-Bumping-Flussmittel zu liefern. Unser umfangreiches Portfolio umfasst Materialien, die auf verschiedene Anwendungen zugeschnitten sind, darunter traditionelle Wafer-Bumping-Prozesse, bei denen Flussmittel auf plattierte Bumps oder Kupfersäulen aufgeschleudert werden. Darüber hinaus eignen sich unsere Produkte hervorragend für Druckanwendungen, bei denen Flussmittel vor einem Ball-Drop-Verfahren auf Wafer aufgebracht werden. Dies ist bei CSP auf Waferebene (WLCSP) sowie bei Fan-out-Gehäusen auf Wafer- und Panelebene üblich.
Unsere Wafer-Bumping-Flussmittel sind mit Polymeren und Passivierungsmaterialien kompatibel, die üblicherweise bei der Verarbeitung von Wafern und der Verpackungsmontage verwendet werden.
- Auftragen durch Spritzen oder Dosieren, gefolgt von Schleuderbeschichtung zur Optimierung der Schichtdicke
- Reflow in inert atmosphere (typically <20ppm O2 level)
- Verwandelt raue, nicht kugelförmige, plattierte oder mit Wafersonden verbeulte Lötpunkte in glänzende, oxidfreie Lötpunkte
- Bewährte Anwendungen sind Kupfer-Säulen-Mikrobumps und Standard-Lötbumps
- Aufbringung durch Druck auf Wafer oder Platte mittels Sieb oder Schablone, gefolgt von einem Ball Drop-Verfahren
- Das Wafer-Bumping-Flussmittel WS-3401 wird in der modernsten 2,5D-Chip-on-Wafer-Packaging-Technologie eingesetzt.
- Das Wafer-Bumping-Flussmittel SC-5R wird seit über 10 Jahren in älteren Produkten verwendet.
Wafer-Bumping-Flussmittel Produkte
Das Wafer-Bumping mit Flussmittel ist nach wie vor eine weit verbreitete Methode, obwohl einige Unternehmen zu flussmittelfreien Anlagen und Verfahren übergegangen sind. Flussmittel sind sehr effektiv bei der Herstellung gleichmäßig oxidarmer und gut gerundeter Bumps mit optimaler Morphologie.
| Flussmittel Typ* | Methode der Flussmittelanwendung | Beschreibung | Reinigungsmethode | Halogenfrei | Material |
|---|---|---|---|---|---|
| SC | Dispens/Spin-Beschichtung | Hoch-Pb-, SnPb-eutektische und SnAg-Lötanschlüsse | Lösungsmittel- oder wässrige Chemie | Ja | SC-5R |
| WS | Dispens/Spin-Beschichtung | Kupfersäulen im Abstand von 20-65 Mikron mit SnAg- oder Sn100-Mikrobumps | Warmes DI-Wasser | Ja | WS-3401 WS-3543 |
| Flussmittel Typ* | Methode der Flussmittelanwendung | Beschreibung | Reinigungsmethode | Halogenfrei | Material |
|---|---|---|---|---|---|
| WS | 0,5 mm und kleineres Pitch-Gehäuse auf Wafer- oder Panel-Ebene; auch für LED-Die-Attach-Anwendungen geeignet | Warmes DI-Wasser | Ja | WS-676 WS-759 WS-829 |
| Überlegungen | Lötpaste | Beschichtung | Flussmittel/Lötmittel Kugeldruck | C4-NP (Suess/IBM) |
|---|---|---|---|---|
| In der Großserienfertigung eingesetzt? | Ja | Ja | Ja | Ja |
| Legierungsbeschränkungen | Alle Lotlegierungen, sofern Pulver hergestellt werden kann | Nur binäre Legierungen (Sn/Pb, Sn/Ag, Sn/Cu usw.) aufgrund von Problemen bei der Legierungskontrolle | Alle Lötlegierungen, sofern eine Kugel hergestellt werden kann | Wahrscheinlich auf binäre Legierungen beschränkt |
| Größe des Höckers | Nur bis zu einer Größe von etwa 125 Mikron. Nur 45% des Pastenvolumens ist Metall | Unebenheiten von bis zu 2 Mikrometern möglich: möglicherweise weniger | 60 Mikrometer Bump-Durchmesser in der Massenproduktion, aber am häufigsten für die CSP-Herstellung auf Waferebene verwendet | Unbekannt |
| Gleichmäßigkeit des Stoßes | OK: kann je nach Alter der Lötpaste und Druckprozessvariablen erheblich variieren | Gut | Gut mit entsprechenden eng tolerierten Lötkugeln | Gut |
| Entleerung | Gemeinsame | Wenig oder gar nicht mit einem kontrollierten Beschichtungsprozess | Wenig oder gar nicht | Wenig oder gar nicht |
| Kostenvergleich | Niedrige Kosten | Teurer | Niedrige Kosten | Hohe Kapitalkosten |
| Prototyping | Ziemlich einfach | Komplexe | Einfach | Komplexe |
Produktdatenblätter
WS-3401 Wafer-Flussmittel PDS 98197 R4.pdf
WS-3401-A Wafer-Flussmittel PDS 98764 R4.pdf
WS-3518 Wafer-Flussmittel PDS 98431 R3.pdf
WS-3543 Wafer-Flussmittel PDS 98398 R3.pdf
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