Die Indium Corporation hat ihr Portfolio an Pasten für den Fine-Feature-Druck um eine halogenfreie, reinigungsfähige Lötpaste erweitert, die speziell für den Fine-Feature-Druck entwickelt wurde, wie er bei den Bauteilen 01005 und 008004 zum Einsatz kommt.
SiPaste C201HF kombiniert eine überragende, branchenführende NWO-Leistung (Non-Wet-Open) mit einer ausgezeichneten Schablonendruck-Übertragungseffizienz, um die unterschiedlichsten Prozessanforderungen zu erfüllen und die SPI-Ausbeute zu steigern. Sie hinterlässt einen reinigungsfähigen Rückstand, der mit einer handelsüblichen halbwässrigen Reinigungslösung entfernt werden kann, oder sie kann als Standard-No-Clean-Paste in Prozessen verwendet werden, in denen eine Post-Reflow-Reinigung nicht möglich ist.
SiPaste C201HF zeichnet sich durch eine exzellente Transfereffizienz bei feinen Strukturöffnungen aus, mit konstanten Prozessausbeuten unter 80 m.
SiPaste C201HF liefert:
- Gleichmäßiges und dichtes Lotdepot über mehrere Drucke hinweg; hervorragende Reaktion auf Pausen
- Minimale Aushöhlung bei Bauteilen mit engem Raster, Gewährleistung der Verbindungsfestigkeit bei kleinen Bauteilen
- Hervorragende Reflow-Leistung bei Bauteilen, die einen hohen Verzug aufweisen
- Verbessertes Fließverhalten mit minimaler Brückenbildung während des Montageprozesses, wodurch die Ausbeute bei Komponenten mit geringem Abstand verbessert wird
- Flexible Reinigung; kann in Prozessen verwendet werden, die eine Reinigung mit einem Verseifungsmittel erfordern oder die keine Reinigung erfordern
Weitere Informationen über die Pasten von Indium Corporation für den Feinstrukturdruck erhalten Sie von Evan Griffith, Product Specialist - Semiconductor and Advanced Assembly Materials.
Über Indium Corporation
Indium Corporation ist ein führender Materialveredler, -schmelzer, -hersteller und -lieferant für die weltweiten Elektronik-, Halbleiter-, Dünnschicht- und Wärmemanagementmärkte. Zu den Produkten gehören Lote und Flussmittel, Hartlote, Materialien für thermische Schnittstellen, Sputtertargets, Metalle und anorganische Verbindungen aus Indium, Gallium, Germanium und Zinn sowie NanoFoil. Das 1934 gegründete Unternehmen verfügt über einen weltweiten technischen Support und Fabriken in China, Deutschland, Indien, Malaysia, Singapur, Südkorea, dem Vereinigten Königreich und den Vereinigten Staaten.
Weitere Informationen über die Indium Corporation erhalten Sie unter www.indium.com oder per E-Mail an Jingya Huang. Sie können auch unseren Experten, From One Engineer To Another (#FOETA), unter www.linkedin.com/company/indium-corporation/ oder @IndiumCorp folgen.
