熱蒸着とPVDコーティング

熱蒸着と物理蒸着（PVD）は、さまざまな基板に薄膜やコーティングを施すために使用される2つの技術です。蒸着装置と同様に、原料の純度も非常に重要です。インジウム・コーポレーションは、特にインジウムとガリウムといった高品質の材料を、エレクトロニクスおよび半導体産業向けに提供しています。さらに、お客様のPVDプロセスを最適化するために、経験豊富な技術サポートを提供しています。

サポートを受ける

概要

薄膜蒸着における高品質・高効率の実現

熱蒸着とPVDはどちらも薄膜形成の技術であり、それぞれ異なる方法を利用している。これらのプロセスは、エレクトロニクス、自動車、航空宇宙を含む様々な産業において極めて重要です。効果的かつ効率的な熱蒸発を確実にするためには、高品質の薄膜を得るための高純度金属と合金が不可欠です。インジウムコーポレーションは、高度な材料、品質への揺るぎないこだわり、卓越した技術サポートにより、お客様に選ばれています。

メリット

インジウム・コーポレーションのプレミア材料と専門知識で薄膜蒸着を向上させる

先端材料

私たちは、薄膜蒸着における優れた品質を確保するために、トップクラスの金属、合金、化合物をお届けすることに誇りを持っています。

インジウムの卓越性

インジウムとその化合物、特にインジウムスズ酸化物（ITO）は、その卓越した導電性と透明性から、ディスプレイ、タッチスクリーン、太陽電池によく使われている。

高品質ガリウム

ガリウムは、ガリウムヒ素（GaAs）を形成するのに役立っている。ガリウムヒ素は、電気を光や無線周波数信号に変換する効率が高いことで知られる半導体で、LEDや無線周波数技術に不可欠である。

専用サービス

各お客様と協力して適切な素材を選択し、素材や工程に関する専門知識を提供することで、シームレスな経験をお約束します。

Materials and Available Forms

素材	ラウンドショット	ティアドロップ・ショット	チャンクス	カスタムフォーム	るつぼ充填	カスタムるつぼインサート
で	X	X		X	X	X
アイティーオー			X
ガ	X				X
インガ	X	X		X	X

特徴

熱蒸発のための一般的な元素の物理的性質

	インジウム	ガリウム	銅	セレン
原子番号	49	31	29	34
沸点	2,072°C	2,204°C	2,562°C	685°C
融点	157°C	29.8°C	1,084°C	221°C
密度	7.31g/cm³	6.10g/cm³	8.94g/cm³	4.28 – 4.81g/cm³
原子量	114.8g/mol	69.7g/モル	63.5g/モル	789.6g/mol