應用
化學合成
InCl3 和 GaCl3 鹵化物是合成許多其他铟和鎵化合物（如有機金屬、烷氧基化合物和烷基酰胺）的方便起始材料。作為強大的路易斯酸，InCl3 和 GaCl3 可與含有第 15、16 或 17 族給體原子的不帶電或陰離子配位體互動，形成許多配位化合物。我們也提供許多其他铟和鎵化合物，可用於製造铟和鎵的衍生產品。
概述
成功的合成需要我們的產品所提供的材料具備成熟可靠的材料特性
使用我們的化合物控制您與已知前體材料的反應，以探索铟和鎵化合物系統。我們提供高純度的產品，並支援客戶對所選雜質的特定要求。我們也提供各種金屬濃度的氯化铟溶液，或各種水合形式的氯化铟溶液。
優點
To unlock novel material properties in materials innovation, you need precursor materials with reliable properties and controlled impurities
輸入材料品質
Taking effects from impurities out of the equation lets you focus on reaction mechanisms and conditions.
大量配位化合物
The coordination and solution chemistry of indium and gallium offers an amazing variety of options for materials innovation. As group 13 elements, indium and gallium form a range of coordination compounds, which can in turn interact with one, two, or three ligands that can be neutral or anionic.
氯化物及其他
Indium Chlorides and Gallium chloride have been most popular for chemical synthesis work, but we also provide a wide array of additional compounds that can act as indium and gallium precursors in your reactions.
從樣品到大規模生產
我們很樂意支援您的研究團隊解決材料的基本問題，而且我們可以輕鬆支援小型實驗室和工作台實驗。隨著產品的成長，我們有能力擴大生產規模，並支援您的組織從進入市場到提供大規模製造作業。
化學合成產品
三氯化铟 (IndiTri®)
Powder and solution forms to meet various…
三氯化鎵 (EZ-Pour®)
Exclusive high-purity and safer EZ-Pour® Gallium Trichloride.
铟锭
Purity up to 99.99995%, various Indium Ingot…
鎵射出
Indium Shot offers fast melting, high purity,…
相關應用程式
催化
Indium and gallium compounds for catalysis, chemical…
熱蒸發與 PVD 鍍膜
Achieve efficient and high-quality thin film deposition.
低溫液態與易熔合金
Low temperature liquid & fusible alloys for…
您的成功
是我們的目標
使用最新的材料、技術和專業應用支援來優化製程。一切從與我們的團隊聯繫開始。