有人請我解釋為何有人會選擇使用旋轉式濺鍍靶材，而非平面式濺鍍靶材。
當然，較大的靶材與新設備（假設您目前使用平面系統）確實會產生某些成本，但在高產量製程（例如捲對捲薄膜沉積）中，其優勢將使整體擁有成本降低：
- 相較於平面目標，旋轉目標通常在相同長度下具有更大的表面積。
- 旋轉靶材具有更大的表面積，因此在相同時間內，磁控管功率能分散作用於更廣的區域。此特性有助於維持靶材運行溫度較低，減少結節形成，並降低電弧放電的發生機率。
- 由於旋轉濺鍍可減少結節形成，靶材得以延長連續運行時間。
- 在旋轉靶上通常可供濺射的材料較多，這會延長運行時間。
- 旋轉靶的利用率通常約為80%，相較於平面靶的約30%——這能減少廢料並延長運行時間。
- 旋轉靶材非常適合用於連續濺鍍製程。連續加工可提高產能，因為無需耗費時間準備濺鍍腔室。
- 旋轉式標靶在高產量製程中更具成本效益。它們為長時間運轉的製程提供優質平台，能降低缺陷發生率與停機時間。
- 平面靶材仍最適合用於原型製作或元素實驗，尤其當不需要一次大量材料時。
若您有興趣討論濺鍍靶材相關事宜，請聯繫我們的團隊：[email protected]
~Jim
