铟化合物
氨基磺酸铟電鍍液
使用我們的氨基磺酸鹽鍍铟液來增強您的電鍍製程，該電鍍液專為在各種基材上沉積高純度铟而設計。無論是原型或大規模生產，此優質解決方案都能提供微電子和航太產業所需的效能和可靠性，確保每次都能完成頂級的金屬表面處理。
Powered by Indium Corporation
- 卓越的穩定性
- 統一沉積
- 高投配方
產品總覽
Indium Corporation 的氨基磺酸鹽電鍍液有小瓶裝、55 加侖桶裝或更大的桶裝，可靈活配合任何生產規模。這種常溫電鍍液只需要極少的添加劑，主要是因為其高效率的陽極系統可持續補充金屬铟。只要保養得宜，此電鍍槽可使用數年之久，只需不時補充溶液即可。
電鍍可應用於一系列準備良好的基材金屬化，包括銅、黃銅、鎳、金、錫和低碳钢。然而，不銹鋼和鋁在電鍍任何金屬之前，都需要進行專門的表面處理。
- Indium content: 30g/L and above, depending on specific requirements
- pH 值範圍：1.5-3.5（優先選擇 1.5-2.0）。
- 操作溫度：室溫 (20-25°C)
- 陰極效率：90
- 陽極效率：100
- Deposition rate: Approx. 1.5 mils/hour at 20amps/ft²
特點
開創卓越
Indium Corporation 於 1934 年開發出第一個商用鍍铟液。
綠色清潔
我們的氨基磺酸铟溶液對環境友善，無需使用有毒化學品，也不會因過時的氰化物配方而產生昂貴的處置費用。
最佳效能
浴槽可在 10-100 安培/平方英尺之間運作，20 安培/平方英尺為最佳。
陰極效率
效率高達 90%，躋身頂級商用鍍铟解決方案之列。
氨基磺酸铟電鍍液產品
氨基磺酸铟電鍍液
Prepared as a ready-to-use solution with a standard concentration of 30g/l of indium ions with tailoring options to meet specific customer requirements.
氨基磺酸鋇鍍铟液套件
全面的電鍍套件，是小型電鍍專案和原型製作的理想選擇。套件包括
- 1 公升氨基磺酸鹽電鍍槽溶液
- 兩條薄铟金屬帶（1" x 12" x 0.0625″，4N 純度）作為陽極材料
- 詳述鍍铟槽的設定、操作和維護的電鍍手冊
產品資料表
氨基磺酸鋇鍍鋅液 PDS 97686 R5.pdf
相關應用程式
氨基磺酸铟电镀液适用于多种应用。
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