氨基磺酸铟电镀液

我们的氨基磺酸铟电镀液可在各种基底上沉积高纯度的铟，从而增强您的电镀工艺。无论是原型还是大规模生产，这种优质的解决方案都能提供微电子和航空航天等行业所必需的性能和可靠性，确保每次都能获得一流的金属表面效果。

由铟泰公司提供支持

卓越的稳定性
统一沉积
高抛配方

一个贴有警告标签的 1 升透明化学瓶直立放置。旁边的黑色表面上有两条银色金属带。

产品概览

Indium Corporation’s sulfamate electroplating solution is available in small bottles, 55-gallon drums, or larger totes, providing flexibility to suit any production scale. This room-temperature plating bath requires minimal additives, in large part due to its efficient anode system that continuously replenishes indium metal. With proper maintenance, the bath can last for years, requiring only occasional solution top-ups.

电镀可应用于一系列准备充分的金属化基材，包括铜、黄铜、镍、金、锡和低碳钢。不过，不锈钢和铝在电镀任何金属之前都需要进行专门的表面处理。

Indium content: 30g/L and above, depending on specific requirements
pH 值范围：1.5-3.5 （首选 1.5-2.0）
工作温度：室温（20-25°C）
阴极效率：90
阳极效率：100
Deposition rate: Approx. 1.5 mils/hour at 20amps/ft²

特点

卓越先锋

Indium Corporation developed the first commercial indium plating bath in 1934.

绿色与清洁

我们的氨基磺酸铟溶液对环境友好，无需使用有毒化学品，也不会因使用过时的氰化物配方而产生高昂的处理费用。

最佳性能

浴槽的工作电流为 10-100 安培/平方英尺，最佳电流为 20 安培/平方英尺。

阴极效率

其效率高达 90%，跻身顶级商用铟电镀解决方案之列。

氨基磺酸铟电镀液产品

氨基磺酸铟电镀液

Prepared as a ready-to-use solution with a standard concentration of 30g/l of indium ions with tailoring options to meet specific customer requirements.