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銦製真空密封、氣密密封及低溫密封

由於銦具有柔軟且易壓縮的特性,因此非常適合用於製造密封件。一般而言,純度為 99.99% 的銦已足以滿足真空、氣密或低溫密封的需求,但若有特殊要求,亦可提供更高純度的產品。無論最終用途為何,Indium Corporation 皆能提供符合需求之正確純度、形態與形狀的產品。

銦預成型件通常用於製作密封件。這些預成型件可製成無窮無盡的各種形狀和尺寸,以滿足應用需求。預成型件的厚度對密封效果至關重要,因為若銦的體積不足,密封件最終會因缺乏銦來填補空隙而失效。 只需一通電話,Indium Corporation 的技術支援工程師便能為您提供專業協助,協助您在設計密封應用時處理此關鍵環節。

銦線亦可用於製作真空、氣密或低溫密封。必須謹慎確保選用正確直徑的銦線來進行密封。若直徑過小,間隙將無法充分填滿,導致密封區域容易發生洩漏;若直徑過大,銦線在受壓時會從密封區域擠出,並可能干擾該區域內的其他電子元件。

使用金屬線時,必須注意將金屬線置於待密封區域的正中央。若金屬線偏離中心,在壓縮時可能會因受力不均而無法形成足夠的密封效果。在某些情況下,可在密封區域開鑿一道小凹槽,藉此將凹槽作為引導,確保金屬線能精準定位,如此會更為有利。

並非所有密封件都需要同等程度的關注。有些密封件需要維持其完整性長達數年,而有些則只需在短時間內保持密封狀態。最終使用者應了解自身情況下的具體要求。對於關鍵性較高的密封件,則需遵循以下所述的程序,以確保符合完整性要求。

銦具有自鈍化特性,在室溫下其表面會形成約 80 至 100 安格斯特羅姆厚的氧化層。在更為關鍵的密封應用中,必須在形成密封前去除這層氧化層,因為若在壓縮銦的過程中氧化層仍存在,該氧化層將被擠壓至表面下方,進而可能形成洩漏通道。

應遵循以下氧化物去除程序,此程序適用於銦預成型件及銦線:

  • 請使用丙酮對銦進行脫脂處理,以去除任何可能影響密封效果的表面有機物。
  • 將銦置於 10% 鹽酸中約 1 分鐘,以去除表面的氧化層。
  • 用去離子水徹底沖洗,以去除鹽酸。
  • 用丙酮沖洗以去除水分。
  • 請使用乾氮氣吹乾,或讓其自然風乾。

請參閱我們關於「蝕刻銦以去除氧化物」的應用說明

注意:

銦會與自身發生冷焊現象,特別是在表面氧化層被去除之後。必須特別注意,切勿讓銦接觸其他剛經蝕刻處理的銦片,因為它們會像接觸膠一樣黏在一起。若不損壞銦片,要將它們分離是極為困難,甚至幾乎不可能的。

請參閱我們關於銦冷焊的應用說明

當銦已準備就緒後,必須謹慎將預成型件或銦絲正確放置於待密封的表面上。銦定位後,完成密封所需的壓力大小則取決於具體應用情境。可能需要進行數次試驗,才能確定形成所需密封所需的恰當壓力。這些試驗同時也是調整所用銦層厚度的良好時機。

若您在符合認證要求方面需要任何協助,請聯絡 Indium Corporation。我們擁有豐富的經驗與專業知識可供分享,這將有助於縮短準備認證流程並使其就緒以供實施所需的時間。

Paul Socha

2012年10月15日