铟公司目前正在生产纯度极高的锡--请参见此处：https://www.indium.com/products/metals/tin/ --我很想解释一下我们投资这项技术的原因：
每一代新硅芯片都需要普罗米修斯--这是一种关键技术，可提供在晶片上打印特征所需的低波长光。这一系列步骤已经使用了几十年，被称为光刻技术：产生大量光子并形成足够明亮的光束，制造光学元件将光束转向特征定义掩膜，将产生的图像投射到涂有光刻胶的晶片上，将图案蚀刻到晶片上，最后剥离剩余的光刻胶，以便在工厂中进行下一道工序--这并不像听起来那么简单。
我们知道半导体行业已经多次成功地做到了这一点，因为我们都听说过摩尔定律。
那么，究竟 如何才能产生 5 纳米和 3 纳米工艺所需的 13.5 纳米亮度的光束呢？直到最近，答案还是："简单--使用同步加速器"。这些粒子加速器遍布全球。剧透一下：这种加速器只有 60 台，而且只有政府资助的研究机构才有能力建造、配备人员并运行这种加速器。
下一个可能的答案是--"嗯--当然可以使用某种激光器"。问题是，这种波长的激光器也有些昂贵。13.5 纳米波长是一种 "软 "X 射线波长。激光器是有的，但仍不能满足需要。
这就是等离子体：将某种元素电离，就会产生等离子体，这种等离子体会发出与所使用元素有关的特定频率的光。如果你曾透过窗户观察正在运行的溅射室，就会看到氩等离子体发出的紫色光芒（见下图）。
最后，我们回到锡：锡等离子体发出的光具有所需的 13.5 纳米峰值附近的发射光谱。而且，最重要的是，锡等离子体具有很高的转换效率，可以产生所需的高亮度。
The other piece of good news is that tin is an element with a huge usage in today's world. In the electronics industry alone, it is used in the majority of solder alloys; here at Indium Corporation, we have been working with tin for a very long time.
We also have spent a number of years refining tin and pushing its purity beyond the standard degree available (4N, or 99.99%) to 5N and beyond to 6N, to create the purity level that is needed for this new application. Indium Corporation is ready to support this exciting new application that will play an essential part to keep Moores' law going for many years.
